Method and apparatus for supporting substrate

基板を支持するための方法及び装置

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method and an apparatus for supporting a substrate, which in order to control the vertical direction of a lift pin, restrict the angle of the lift pin and/or prevent the lift pin from being unconsciously combined with a susceptor as the susceptor is raised and prevent the generation of an uneven support caused by a substrate. <P>SOLUTION: An apparatus comprises a vertically aligned lift pin, having a bearing surface engaged with a friction plate for maintaining the vertical direction of the lift pin and/or a magnetic field. In some embodiments, the magnetic field and/or weight can be possibly or further used. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI
【課題】 リフトピンの垂直の向きを制御するために、リフトピンの角度を制限し、及び/又はサセプタが上がるにつれてリフトピンがサセプタに無意識に結合するのを防止し且つ基板の結果として生じる平坦でない支持体を防止する、基板支持方法及び装置の提供。 【解決手段】 基板を持ち上げる間、リフトピンの垂直の向きを維持する摩擦プレート及び/又は磁界と係合する軸受面を有する垂直に整列したリフトピンを含んでいる。ある実施態様においては、磁界及び/又は重量を、或いは又は更に、用いることができる。 【選択図】 図2

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