化学的機械研磨システムのための可撓膜を有する支持ヘッド

Support head having flexible membrane for chemical mechanical polishing system

Abstract

【課題】 新規な化学的機械研磨装置用の支持ヘッドを提供すること。 【解決手段】 支持ヘッド100はハウジング102、ベース104、負荷機構108、ジンバル機構106、および基板バッキングアセンブリ112を含む。基板バッキングアセンブリは、ベースの下に配置される支持構造体114、この支持構造体をベースに連結する実質的に水平な環状フレクシャ116、および支持構造体に連結される可撓膜118を含む。可撓膜は基板用の取付け面274を持ち、ベースの直ぐ下に延びてチャンバ290を画成する。 【選択図】 図4
<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a new support head for a chemical mechanical polishing apparatus. <P>SOLUTION: A support head 100 includes a housing 102, a base 104, a load mechanism 108, a gimbal mechanism 106 and a substrate-backing assembly 112. The substrate backing assembly includes a support structure 114 disposed under the base, a ring flexure 116 which is substantially horizontal for coupling the support structure to the base, and a flexible membrane 118 which is to be coupled to the support structure. The flexible membrane has an attachment surface 274 for the substrate and extends directly beneath the base, to form a chamber 290. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

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    JP-2009065195-AMarch 26, 2009Applied Materials Inc, アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドApplied Materials,IncorporatedRetaining ring for chemical mechanical polishing head